В учебное пособие включено описание новых технологических процессов, которые составляют основу современного производства сверхбольших интегральных схем (СБИС) и других устройств кремниевой наноэлектроники. К таким процессам относятся субмикронная литография, ионное легирование, быстрый термический отжиг, ионное и плазмохимическое травление наноструктур, атомно-слоевое и ионно-плазменное осаждение металлов и диэлектриков, химико-механическая планаризация. Изложены технологические маршруты формирования СБИС.
Пособие предназначено для слушателей программы переподготовки в области промышленного производства наногетероструктурных монолитных интегральных схем СВЧ-диапазона и дискретных полупроводниковых приборов, а также может быть использовано при подготовке студентов, обучающихся по направлению «Электроника и наноэлектроника», «Нанотехнология», «Нанотехнология и микросистемная техника».
